技術情報
真空浸炭炉 【ＮＥＯＶＩＡ】
- 雰囲気制御システムを搭載した 真空浸炭炉（796k）
- 雰囲気制御式真空浸炭炉の量産実 績と表面改質への応用（2.58M）
- 雰囲気制御付真空浸炭炉による各 種材料の表面改質（1.32M）
- 真空浸炭炉の精密制御（1.5M ）
- 真空浸炭と品質保証（1.5M）
雰囲気熱処理と設備
- 窒化ポテンシャル制御システム付 きガス軟窒化炉（1.32M）
- 新しい雰囲気炉と熱処理（ 1.1M）
- スペリア式バッチ型ガス浸炭窒 化炉の使用例（1.6M）
- 熱処理設備と省エネルギー （908k）
- 自律分散制御方式による全 自動熱処理設備（764k）
- 高速滴注式ガス浸炭法 （360k）
- 新型高機能ガス浸炭炉 （N-BBH）の開発（1.2M）
- 進化する滴注式ガス浸炭法 （1.1M）
- 窒素を活用した表面改質 （4.3M）
プラズマＣＶＤ コーティング
- プラズマＣＶＤ法による（Ti，Al ）Ｎ系多層膜の特性と応用（1.8M）
- プラズマＣＶＤ法の金型への応用 （672k）
- パルスＤＣプラズマＣＶＤ法による ＤＬＣ膜の特性と応用（280k）
- プラズマCVD法による型寿命向上 （1.3M）
- 大型パルスDC-PCVD装置による新機 能コーティング（1.75M）
- パルスDC-PCVD法による各種硬質皮 膜の金型への応用（1.32M）
表面強化
- 『マルチハードピーニング』の装置 と効果（1.4M）
取扱説明書
- 直接挿入型酸素センサ_OS型_取扱説明書補足資料（570KB）
OE技報
- 81号(9.2MB)
- 80号(7.52MB)
- 79号(5.25MB)
- 78号(3.18MB)
- 77号(5.92MB)
- 76号(766KB)
- 75号(5.55MB)
- 74号(1.6MB)
- 73号(2.19MB)
- 72号(2.34MB)
- 71号(2.79MB)
- 70号(628k)
- 69号(548k)
- 68号(620k)
- 67号(642k)
- 66号(627k)
- 65号(523k)
- 64号(782k)
- 63号(511k)
- 62号(601k)
- 61号(577k)
- 60号(743k)
- 59号(559k)
- 58号(504k)
- 57号(621k)
- 56号(1.1M)
- 55号(587k)
- 54号(998k)
- 53号(599k)
- 52号(560k)
- 51号(478k)
- 50号(518k)
- 49号(576k)
- 48号(986k)
- 47号(412k)
- 46号(404k)
- 45号(340k)
- 44号(1.2M)
- 43号(844k)
- 42号(844k)
- 41号(256k)
- 40号(674k)
- 39号(545k)
- 38号(508k)
- 37号(219k)
- 36号(564k)
- 35号(386k)
- 34号(497k)
- 33号(396k)
- 32号(461k)
- 31号(428k)
- 30号(824k)
- 29号(1.1M)
- 28号(125k)
- 27号(123k)
- 26号(164k)
- 25号(118k)
- 24号(170k)
- 23号(116k)
- 22号(162k)
- 21号(91k)
- 20号(119k)
- 19号(125k)
- 18号(163k)
- 17号(227k)
- 16号(239k)
- 15号(100K)
- 14号(166k)
- 13号(244k)
- 12号(208k)
- 11号(204k)
- 10号(152k)
- 9号(140k)
- 8号(124k)
- 7号(172k)
- 6号(112k)
- 5号(116k)
- 4号(144k)
- 3号(168k)
- 2号(136k)
- 1号(172k)
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